Informacje o przetargu
Dostawa reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie. - polska-warszawa: aparatura kontrolna i badawcza
ROZWIŃ
Opis przedmiotu przetargu: przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego reaktora do termicznego utleniania powierzchni sic i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów temperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oc. maksymalna średnica podłoża do 150mm. wymagania zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”. ii.1.6)
Zamawiający:
Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
| Adres: | Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa, woj. mazowieckie |
|---|---|
| Dane kontaktowe: | email: jaroslaw.lizinczyk@itme.edu.pl tel: 22 8353041 w. 407 fax: - |
Dane postępowania
| ID postępowania: | 17635520141 | ||
|---|---|---|---|
| Data publikacji zamówienia: | 2014-05-27 | Termin składania wniosków: | 2014-07-03 |
| Rodzaj zamówienia: | dostawy | Tryb& postępowania [PN]: | Przetarg nieograniczony |
| Czas na realizację: | 5 miesięcy | Wadium: | 25000 ZŁ |
| Oferty uzupełniające: | NIE | Oferty częściowe: | NIE |
| Oferty wariantowe: | NIE | Przewidywana licyctacja: | NIE |
| Ilość części: | 0 | Kryterium ceny: | 100% |
| WWW ogłoszenia: | http://www.itme.edu.pl | Informacja dostępna pod: | Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych ul. Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa, woj. mazowieckie |
| Okres związania ofertą: | 60 dni | ||
Kody CPV
| 38500000-0 | Aparatura kontrolna i badawcza |
Wyniki
| Nazwa części | Wykonawca | Wartość |
|---|---|---|
| Dostawa reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie | ATV Technologie GmbH Vaterstetten | 1 088 976,00 |
Barometr Ryzyka NadużyćRaport końcowy na temat potencjalnego ryzyka nadużyć dla wskazanej części wyniku postępowania przetargowego.
| Dane ogłoszenia o wyniku: Data udzielenia: 2014-07-28 Dotyczy cześci nr: 0 Kody CPV: 38500000 Ilość podmiotów składających się na wykonawcę: 1 Kwota oferty w PLN: 1 088 976,00 zł Minimalna złożona oferta: 1 088 976,00 zł Ilość złożonych ofert: 1 Ilość ofert odrzuconych przez zamawiającego: 0 Minimalna złożona oferta: 1 088 976,00 zł Maksymalna złożona oferta: 1 088 976,00 zł | |
| TI | Tytuł | Polska-Warszawa: Aparatura kontrolna i badawcza |
|---|---|---|
| ND | Nr dokumentu | 176355-2014 |
| PD | Data publikacji | 27/05/2014 |
| OJ | Dz.U. S | 101 |
| TW | Miejscowość | WARSZAWA |
| AU | Nazwa instytucji | Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych |
| OL | Język oryginału | PL |
| HD | Nagłówek | Państwa członkowskie - Zamówienie publiczne na dostawy - Ogłoszenie o zamówieniu - Procedura otwarta |
| CY | Kraj | PL |
| AA | Rodzaj instytucji | 8 - Inne |
| DS | Dokument wysłany | 23/05/2014 |
| DT | Termin | 03/07/2014 |
| NC | Zamówienie | 2 - Zamówienie publiczne na dostawy |
| PR | Procedura | 1 - Procedura otwarta |
| TD | Dokument | 3 - Ogłoszenie o zamówieniu |
| RP | Legislacja | 4 - Unia Europejska |
| TY | Rodzaj oferty | 1 - Oferta całościowa |
| AC | Kryteria udzielenia zamówienia | 1 - Najniższa cena |
| PC | Kod CPV | 38500000 - Aparatura kontrolna i badawcza |
| OC | Pierwotny kod CPV | 38500000 - Aparatura kontrolna i badawcza |
| RC | Kod NUTS | PL127 |
| IA | Adres internetowy (URL) | http://www.itme.edu.pl |
| DI | Podstawa prawna | Dyrektywa klasyczna (2004/18/WE) |
27/05/2014 S101 Państwa członkowskie - Zamówienie publiczne na dostawy - Ogłoszenie o zamówieniu - Procedura otwarta
Polska-Warszawa: Aparatura kontrolna i badawcza
2014/S 101-176355
Ogłoszenie o zamówieniu
Dostawy
Sekcja I: Instytucja zamawiająca
I.1)Nazwa, adresy i punkty kontaktowe
Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Wólczyńska 133
Osoba do kontaktów: Sławomir Strelau
01-919 Warszawa
POLSKA
Tel.: +48 228353536
E-mail: slawomir.strelau@itme.edu.pl
Faks: +48 228349220
Adresy internetowe:
Ogólny adres instytucji zamawiającej: http://www.itme.edu.pl
Więcej informacji można uzyskać pod adresem: Powyższy(-e) punkt(-y) kontaktowy(-e)
Specyfikacje i dokumenty dodatkowe (w tym dokumenty dotyczące dialogu konkurencyjnego oraz dynamicznego systemu zakupów) można uzyskać pod adresem: Powyższy(-e) punkt(-y) kontaktowy(-e)
Oferty lub wnioski o dopuszczenie do udziału w postępowaniu należy przesyłać na adres: Powyższy(-e) punkt(-y) kontaktowy(-e)
I.2)Rodzaj instytucji zamawiającej
Inna: Instytut badawczy
I.3)Główny przedmiot lub przedmioty działalności
Inny: nauka
I.4)Udzielenie zamówienia w imieniu innych instytucji zamawiających
Instytucja zamawiająca dokonuje zakupu w imieniu innych instytucji zamawiających: nie
Sekcja II: Przedmiot zamówienia
II.1)Opis
II.1.1)Nazwa nadana zamówieniu przez instytucję zamawiającą:
Dostawa reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie.
II.1.2)Rodzaj zamówienia oraz lokalizacja robót budowlanych, miejsce realizacji dostawy lub świadczenia usług
Dostawy
Kod NUTS PL127
II.1.3)Informacje na temat zamówienia publicznego, umowy ramowej lub dynamicznego systemu zakupów (DSZ)
Ogłoszenie dotyczy zamówienia publicznego
II.1.4)Informacje na temat umowy ramowej
II.1.5)Krótki opis zamówienia lub zakupu
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego
reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach:
b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów
c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów
Temperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oC. Maksymalna średnica podłoża do 150mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach:
b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów
c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów
Temperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oC. Maksymalna średnica podłoża do 150mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
II.1.6)Wspólny Słownik Zamówień (CPV)
38500000
II.1.7)Informacje na temat Porozumienia w sprawie zamówień rządowych (GPA)
Zamówienie jest objęte Porozumieniem w sprawie zamówień rządowych (GPA): nie
II.1.8)Części
To zamówienie podzielone jest na części: nie
II.1.9)Informacje o ofertach wariantowych
Dopuszcza się składanie ofert wariantowych: nie
II.2)Wielkość lub zakres zamówienia
II.2.1)Całkowita wielkość lub zakres:
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego
reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach:
b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów
c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów
Temperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oC. Maksymalna średnica podłoża do 150mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
Szacunkowa wartość bez VAT: 250 000 EUR
reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach:
b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów
c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów
Temperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oC. Maksymalna średnica podłoża do 150mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
Szacunkowa wartość bez VAT: 250 000 EUR
II.2.2)Informacje o opcjach
Opcje: nie
II.2.3)Informacje o wznowieniach
Jest to zamówienie podlegające wznowieniu: nie
II.3)Czas trwania zamówienia lub termin realizacji
Okres w miesiącach: 5 (od udzielenia zamówienia)
Sekcja III: Informacje o charakterze prawnym, ekonomicznym, finansowym i technicznym
III.1)Warunki dotyczące zamówienia
III.1.1)Wymagane wadia i gwarancje:
VIII. Wymagania dotyczące wadium:
1. W niniejszym postępowaniu Zamawiający wymaga wniesienia wadium w wysokości 25 000 zł (słownie: dwadzieścia pięć tysięcy złotych).
2. Wadium wnosi się przed upływem terminu składania ofert.
3. Wadium może być wnoszone w jednej lub kilku następujących formach:
a) pieniądzu;
b) poręczeniach bankowych lub poręczeniach spółdzielczej kasy oszczędnościowo-kredytowej, z tym że poręczenie kasy jest zawsze poręczeniem pieniężnym;
c) gwarancjach bankowych;
d) gwarancjach ubezpieczeniowych;
e) poręczeniach udzielanych przez podmioty, o których mowa w art. 6b ust. 5 pkt 2 ustawy z dnia 9 listopada 2000 r. o utworzeniu Polskiej Agencji Rozwoju Przedsiębiorczości (Dz. U. Z 2007 r. Nr 42, poz. 275, z 2008 r. Nr 116, poz. 730 i 732 i Nr 227, poz. 1505 oraz z 2010 r. Nr 96, poz. 620).
4. Wadium wnoszone w pieniądzu wpłaca się przelewem na rachunek bankowy Zamawiającego: 73 1030 1032 0000 0000 0876 0304 z dopiskiem „WADIUM W PRZETARGU NIEOGRANICZONYM ZP/008/2014 NA DOSTAWĘ REAKTORA DO TERMICZNEGO UTLENIANIA POWIERZCHNI SIC I DENSYFIKACJI WARSTW W ATMOSFERZE O KONTROLOWANYM SKŁADZIE DLA ITME”.
5. Wadium wnoszone w innej formie, niż w pieniądzu powinno zostać złożone w kasie ITME w budynku nr 2 pokój 189 w dni robocze w godzinach 12:00 – 15:00 w zamkniętej kopercie opisanej jak oferta z dopiskiem „WADIUM W PRZETARGU NIEOGRANICZONYM ZP/008/2014 NA DOSTAWĘ NA DOSTAWĘ REAKTORA DO TERMICZNEGO UTLENIANIA POWIERZCHNI SIC I DENSYFIKACJI WARSTW W ATMOSFERZE O KONTROLOWANYM SKŁADZIE DLA ITME”. Wadium musi zachowywać ważność przez cały okres związania ofertą. Zawartość kopert zostanie sprawdzona w toku prac komisji przetargowej Zamawiającego związanych z analizą dokumentów przedłożonych przez Wykonawcę.
6. Wadium wniesione w pieniądzu Zamawiający przechowa na rachunku bankowym.
7. Zamawiający zwróci wadium wszystkim Wykonawcom niezwłocznie po wyborze oferty najkorzystniejszej lub unieważnieniu postępowania, z wyjątkiem Wykonawcy, którego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza. Zamawiający zatrzyma wadium wraz z odsetkami, jeżeli Wykonawca w odpowiedzi na wezwanie Zamawiającego, o którym mowa w art. 26 ust. 3 Ustawy prawo zamówień publicznych, nie złożył dokumentów lub oświadczeń, o których mowa w art. 25 ust. 1 Ustawy, lub pełnomocnictw, chyba że udowodni, że wynika to z przyczyn nieleżących po jego stronie.
8. Wykonawcy, którego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza, Zamawiający zwróci wadium niezwłocznie po zawarciu umowy w sprawie zamówienia publicznego oraz wniesieniu zabezpieczenia należytego wykonania umowy.
9. Zamawiający zwróci niezwłocznie wadium na wniosek Wykonawcy, który wycofał ofertę przed upływem terminu składania ofert.
10. Zamawiający żąda ponownego wniesienia wadium przez Wykonawcę, któremu zwrócono wadium na podstawie punktu 7 powyżej, jeżeli w wyniku rozstrzygnięcia odwołania jego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza. Wykonawca wnosi wadium w terminie określonym przez Zamawiającego.
11. Jeżeli wadium wniesiono w pieniądzu, Zamawiający zwróci je wraz z odsetkami wynikającymi z umowy rachunku bankowego, na którym było ono przechowywane, pomniejszone o koszty prowadzenia rachunku bankowego oraz prowizji bankowej za przelew pieniędzy na rachunek bankowy wskazany przez Wykonawcę.
12. Zamawiający zatrzymuje wadium wraz z odsetkami, jeżeli Wykonawca, którego oferta została wybrana:
a) odmówił podpisania umowy w sprawie zamówienia publicznego na warunkach określonych w ofercie;
b) zawarcie umowy w sprawie zamówienia publicznego stało się niemożliwe z przyczyn leżących po stronie Wykonawcy.
1. W niniejszym postępowaniu Zamawiający wymaga wniesienia wadium w wysokości 25 000 zł (słownie: dwadzieścia pięć tysięcy złotych).
2. Wadium wnosi się przed upływem terminu składania ofert.
3. Wadium może być wnoszone w jednej lub kilku następujących formach:
a) pieniądzu;
b) poręczeniach bankowych lub poręczeniach spółdzielczej kasy oszczędnościowo-kredytowej, z tym że poręczenie kasy jest zawsze poręczeniem pieniężnym;
c) gwarancjach bankowych;
d) gwarancjach ubezpieczeniowych;
e) poręczeniach udzielanych przez podmioty, o których mowa w art. 6b ust. 5 pkt 2 ustawy z dnia 9 listopada 2000 r. o utworzeniu Polskiej Agencji Rozwoju Przedsiębiorczości (Dz. U. Z 2007 r. Nr 42, poz. 275, z 2008 r. Nr 116, poz. 730 i 732 i Nr 227, poz. 1505 oraz z 2010 r. Nr 96, poz. 620).
4. Wadium wnoszone w pieniądzu wpłaca się przelewem na rachunek bankowy Zamawiającego: 73 1030 1032 0000 0000 0876 0304 z dopiskiem „WADIUM W PRZETARGU NIEOGRANICZONYM ZP/008/2014 NA DOSTAWĘ REAKTORA DO TERMICZNEGO UTLENIANIA POWIERZCHNI SIC I DENSYFIKACJI WARSTW W ATMOSFERZE O KONTROLOWANYM SKŁADZIE DLA ITME”.
5. Wadium wnoszone w innej formie, niż w pieniądzu powinno zostać złożone w kasie ITME w budynku nr 2 pokój 189 w dni robocze w godzinach 12:00 – 15:00 w zamkniętej kopercie opisanej jak oferta z dopiskiem „WADIUM W PRZETARGU NIEOGRANICZONYM ZP/008/2014 NA DOSTAWĘ NA DOSTAWĘ REAKTORA DO TERMICZNEGO UTLENIANIA POWIERZCHNI SIC I DENSYFIKACJI WARSTW W ATMOSFERZE O KONTROLOWANYM SKŁADZIE DLA ITME”. Wadium musi zachowywać ważność przez cały okres związania ofertą. Zawartość kopert zostanie sprawdzona w toku prac komisji przetargowej Zamawiającego związanych z analizą dokumentów przedłożonych przez Wykonawcę.
6. Wadium wniesione w pieniądzu Zamawiający przechowa na rachunku bankowym.
7. Zamawiający zwróci wadium wszystkim Wykonawcom niezwłocznie po wyborze oferty najkorzystniejszej lub unieważnieniu postępowania, z wyjątkiem Wykonawcy, którego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza. Zamawiający zatrzyma wadium wraz z odsetkami, jeżeli Wykonawca w odpowiedzi na wezwanie Zamawiającego, o którym mowa w art. 26 ust. 3 Ustawy prawo zamówień publicznych, nie złożył dokumentów lub oświadczeń, o których mowa w art. 25 ust. 1 Ustawy, lub pełnomocnictw, chyba że udowodni, że wynika to z przyczyn nieleżących po jego stronie.
8. Wykonawcy, którego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza, Zamawiający zwróci wadium niezwłocznie po zawarciu umowy w sprawie zamówienia publicznego oraz wniesieniu zabezpieczenia należytego wykonania umowy.
9. Zamawiający zwróci niezwłocznie wadium na wniosek Wykonawcy, który wycofał ofertę przed upływem terminu składania ofert.
10. Zamawiający żąda ponownego wniesienia wadium przez Wykonawcę, któremu zwrócono wadium na podstawie punktu 7 powyżej, jeżeli w wyniku rozstrzygnięcia odwołania jego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza. Wykonawca wnosi wadium w terminie określonym przez Zamawiającego.
11. Jeżeli wadium wniesiono w pieniądzu, Zamawiający zwróci je wraz z odsetkami wynikającymi z umowy rachunku bankowego, na którym było ono przechowywane, pomniejszone o koszty prowadzenia rachunku bankowego oraz prowizji bankowej za przelew pieniędzy na rachunek bankowy wskazany przez Wykonawcę.
12. Zamawiający zatrzymuje wadium wraz z odsetkami, jeżeli Wykonawca, którego oferta została wybrana:
a) odmówił podpisania umowy w sprawie zamówienia publicznego na warunkach określonych w ofercie;
b) zawarcie umowy w sprawie zamówienia publicznego stało się niemożliwe z przyczyn leżących po stronie Wykonawcy.
III.1.2)Główne warunki finansowe i uzgodnienia płatnicze i/lub odniesienie do odpowiednich przepisów je regulujących:
III.1.3)Forma prawna, jaką musi przyjąć grupa wykonawców, której zostanie udzielone zamówienie:
III.1.4)Inne szczególne warunki
III.2)Warunki udziału
III.2.1)Sytuacja podmiotowa wykonawców, w tym wymogi związane z wpisem do rejestru zawodowego lub handlowego
Informacje i formalności konieczne do dokonania oceny spełniania wymogów: Zgodnie z SIWZ
III.2.2)Zdolność ekonomiczna i finansowa
Informacje i formalności konieczne do dokonania oceny spełniania wymogów: Zgodnie z SIWZ
III.2.3)Kwalifikacje techniczne
Informacje i formalności konieczne do dokonania oceny spełniania wymogów:
Zgodnie z SIWZ
Zgodnie z SIWZ
III.2.4)Informacje o zamówieniach zastrzeżonych
III.3)Specyficzne warunki dotyczące zamówień na usługi
III.3.1)Informacje dotyczące określonego zawodu
III.3.2)Osoby odpowiedzialne za wykonanie usługi
Sekcja IV: Procedura
IV.1)Rodzaj procedury
IV.1.1)Rodzaj procedury
Otwarta
IV.1.2)Ograniczenie liczby wykonawców, którzy zostaną zaproszeni do składania ofert lub do udziału
IV.1.3)Zmniejszenie liczby wykonawców podczas negocjacji lub dialogu
IV.2)Kryteria udzielenia zamówienia
IV.2.1)Kryteria udzielenia zamówienia
Najniższa cena
IV.2.2)Informacje na temat aukcji elektronicznej
Wykorzystana będzie aukcja elektroniczna: nie
IV.3)Informacje administracyjne
IV.3.1)Numer referencyjny nadany sprawie przez instytucję zamawiającą:
ZP/008/2014
IV.3.2)Poprzednie publikacje dotyczące tego samego zamówienia
nie
IV.3.3)Warunki otrzymania specyfikacji, dokumentów dodatkowych lub dokumentu opisowego
IV.3.4)Termin składania ofert lub wniosków o dopuszczenie do udziału w postępowaniu
3.7.2014 - 10:45
IV.3.5)Data wysłania zaproszeń do składania ofert lub do udziału zakwalifikowanym kandydatom
IV.3.6)Języki, w których można sporządzać oferty lub wnioski o dopuszczenie do udziału w postępowaniu
polski.
IV.3.7)Minimalny okres, w którym oferent będzie związany ofertą
w dniach: 60 (od ustalonej daty składania ofert)
IV.3.8)Warunki otwarcia ofert
Data: 3.7.2014 - 11:00
Miejscowość:
Warszawa,ul Wólczyńska 133
Sekcja VI: Informacje uzupełniające
VI.1)Informacje o powtarzającym się charakterze zamówienia
Jest to zamówienie o charakterze powtarzającym się: nie
VI.2)Informacje o funduszach Unii Europejskiej
Zamówienie dotyczy projektu/programu finansowanego ze środków Unii Europejskiej: nie
VI.3)Informacje dodatkowe
VI.4)Procedury odwoławcze
VI.4.1)Organ odpowiedzialny za procedury odwoławcze
Urząd Zamówień Publicznych
ul. Postępu 17a
02-676 Warszawa
POLSKA
Tel.: +48 224587701
Organ odpowiedzialny za procedury mediacyjne
Urząd Zamówień Publicznych
ul. Postępu 17a
02-676 Warszawa
POLSKA
Tel.: +48 224587701
VI.4.2)Składanie odwołań
Dokładne informacje na temat terminów składania odwołań: Odwołanie wnosi się w terminie 10 dni od dnia przesłania informacji o czynności Zamawiającego stanowiącej podstawę jego wniesienia – jeśli zostały przesłane faksem lub drogą elektroniczną albo w terminie 15 dni jeśli zostały przesłane w inny sposób.
VI.4.3)Źródło, gdzie można uzyskać informacje na temat składania odwołań
Urząd Zamówień Publicznych
ul. Postępu 17a
02-676 Warszawa
POLSKA
Tel.: +48 224587701
VI.5)Data wysłania niniejszego ogłoszenia:
23.5.2014
| TI | Tytuł | Polska-Warszawa: Aparatura kontrolna i badawcza |
|---|---|---|
| ND | Nr dokumentu | 317344-2014 |
| PD | Data publikacji | 19/09/2014 |
| OJ | Dz.U. S | 180 |
| TW | Miejscowość | WARSZAWA |
| AU | Nazwa instytucji | Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych |
| OL | Język oryginału | PL |
| HD | Nagłówek | - - Dostawy - Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia - Procedura otwarta |
| CY | Kraj | PL |
| AA | Rodzaj instytucji | 8 - Inne |
| HA | EU Institution | - |
| DS | Dokument wysłany | 17/09/2014 |
| NC | Zamówienie | 2 - Dostawy |
| PR | Procedura | 1 - Procedura otwarta |
| TD | Dokument | 7 - Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia |
| RP | Legislacja | 4 - Unia Europejska |
| TY | Rodzaj oferty | 9 - Nie dotyczy |
| AC | Kryteria udzielenia zamówienia | 1 - Najniższa cena |
| PC | Kod CPV | 38500000 - Aparatura kontrolna i badawcza |
| OC | Pierwotny kod CPV | 38500000 - Aparatura kontrolna i badawcza |
| RC | Kod NUTS | PL127 |
| IA | Adres internetowy (URL) | http://www.itme.edu.pl |
| DI | Podstawa prawna | Dyrektywa klasyczna (2004/18/WE) |
19/09/2014 S180 - - Dostawy - Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia - Procedura otwarta
Polska-Warszawa: Aparatura kontrolna i badawcza
2014/S 180-317344
Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
Dostawy
Sekcja I: Instytucja zamawiająca
I.1)Nazwa, adresy i punkty kontaktowe
Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Wólczyńska 133
Osoba do kontaktów: Sławomir Strelau
01-919 Warszawa
Polska
Tel.: +48 228353536
E-mail: slawomir.strelau@itme.edu.pl
Faks: +48 228349220
Adresy internetowe:
Ogólny adres instytucji zamawiającej: http://www.itme.edu.pl
I.2)Rodzaj instytucji zamawiającej
Inna: Instytut badawczy
I.3)Główny przedmiot lub przedmioty działalności
Inny: nauka
I.4)Udzielenie zamówienia w imieniu innych instytucji zamawiających
Instytucja zamawiająca dokonuje zakupu w imieniu innych instytucji zamawiających: nie
Sekcja II: Przedmiot zamówienia
II.1)Opis
II.1.1)Nazwa nadana zamówieniu
Dostawa reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie.
II.1.2)Rodzaj zamówienia oraz lokalizacja robót budowlanych, miejsce realizacji dostawy lub świadczenia usług
Dostawy
Kod NUTS PL127
II.1.3)Informacje na temat umowy ramowej lub dynamicznego systemu zakupów (DSZ)
II.1.4)Krótki opis zamówienia lub zakupu
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach:
b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów,
c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów.
Temperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oC. Maksymalna średnica podłoża do 150 mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej SIWZ pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów,
c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów.
Temperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oC. Maksymalna średnica podłoża do 150 mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej SIWZ pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
II.1.5)Wspólny Słownik Zamówień (CPV)
38500000
II.1.6)Informacje na temat Porozumienia w sprawie zamówień rządowych (GPA)
Zamówienie jest objęte Porozumieniem w sprawie zamówień rządowych (GPA): nie
II.2)Całkowita końcowa wartość zamówienia (zamówień)
II.2.1)Całkowita końcowa wartość zamówienia (zamówień)
Wartość: 1 088 976 PLN
Bez VAT
Bez VAT
Sekcja IV: Procedura
IV.1)Rodzaj procedury
IV.1.1)Rodzaj procedury
Otwarta
IV.2)Kryteria udzielenia zamówienia
IV.2.1)Kryteria udzielenia zamówienia
Najniższa cena
IV.2.2)Informacje na temat aukcji elektronicznej
Wykorzystano aukcję elektroniczną: nie
IV.3)Informacje administracyjne
IV.3.1)Numer referencyjny nadany sprawie przez instytucję zamawiającą
ZP/008 /2014
IV.3.2)Poprzednie publikacje dotyczące tego samego zamówienia
Ogłoszenie o zamówieniu
Numer ogłoszenia w Dz.U.: 2014/S 101-176355 z dnia 27.5.2014
Sekcja V: Udzielenie zamówienia
Zamówienie nr: ZP/008/2014 Nazwa: Dostawa reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w WarszawieV.1)Data decyzji o udzieleniu zamówienia:
28.7.2014
V.2)Informacje o ofertach
Liczba otrzymanych ofert: 1
V.3)Nazwa i adres wykonawcy, na rzecz którego została wydana decyzja o udzieleniu zamówienia
ATV Technologie GmbH
Joh.-Seb.-Bach.-Str. 38
85591 Vaterstetten
Niemcy
V.4)Informacje na temat wartości zamówienia
Początkowa szacunkowa całkowita wartość zamówienia:
Wartość: 250 000 EUR
Bez VAT
Całkowita końcowa wartość zamówienia:
Wartość: 1 088 976 PLN
Bez VAT
Wartość: 250 000 EUR
Bez VAT
Całkowita końcowa wartość zamówienia:
Wartość: 1 088 976 PLN
Bez VAT
V.5)Informacje na temat podwykonawstwa
Przewidywane jest zlecenie podwykonawstwa w ramach zamówienia: nie
Sekcja VI: Informacje uzupełniające
VI.1)Informacje o funduszach Unii Europejskiej
Zamówienie dotyczy projektu/programu finansowanego ze środków Unii Europejskiej: nie
VI.2)Informacje dodatkowe:
VI.3)Procedury odwoławcze
VI.3.1)Organ odpowiedzialny za procedury odwoławcze
Urząd Zamówień Publicznych
ul. Postępu 17a
02-676 Warszawa
Polska
Tel.: +48 224587701
Organ odpowiedzialny za procedury mediacyjne
Urząd Zamówień Publicznych
ul. Postępu 17a
02-676 Warszawa
Polska
Tel.: +48 224587701
VI.3.2)Składanie odwołań
Dokładne informacje na temat terminów składania odwołań: Odwołanie wnosi się w terminie 10 dni od dnia przesłania informacji o czynności Zamawiającego stanowiącej podstawę jego wniesienia – jeśli zostały przesłane faksem lub drogą elektroniczną albo w terminie 15 dni jeśli zostały przesłane w inny sposób.
VI.3.3)Źródło, gdzie można uzyskać informacje na temat składania odwołań
Urząd Zamówień Publicznych
ul. Postępu 17a
02-676 Warszawa
Polska
Tel.: +48 224587701
VI.4)Data wysłania niniejszego ogłoszenia:
17.9.2014